利用磁控濺射技術生產各類光學電子薄膜。

　　磁控濺射技術：磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。

　　其具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護、防水防污、防靜電、導電、導磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復合等功能，并能夠提高產品質量、環保、節能、延長產品壽命、改善原有性能等。

　　理論上利用射頻磁控濺射可以濺射沉積任何材料。